昨天随着华为nova5的发布，麒麟810也震撼发布，成为首颗基于7nm工艺制程的中端芯片，同时也是全球第四家基于7nm工艺的手机芯片，一经推出便引发热议。

麒麟810由两颗主频2.27GHz的Cortex-A76高性能大核心+6颗主频1.88GHz的Cortex-A55高性能小核组成。相比目前主流的中端处理器，带来更省电的体验，GPU方面，内置了Mali G52 6核图形芯片；通讯支持双卡VoLTE。

此外，麒麟810搭载华为自研NPU，基于达芬奇架构，能效更出色，AI运算能力超越了目前主流旗舰处理器，AI Benchmark分数达到32280分，这样的综合表现让安兔兔不得不叹服，表示完爆骁龙730

就在麒麟发布810发布以后，一些网友提出这些疑问，为什么麒麟810是台积电打造，使用的光刻机确实国外的呢？中国何时会有自己的光刻机？

芯片的产生主要分为设计和制造两个进程，会设计不一定会制造，会制造不一定会设计，目前主流的旗舰处理器，包括麒麟980、苹果A12等都基于ARM架构，在工艺制程上，它们都采用了7nm工艺，三星猎户座9820是8nm工艺，而决定制程工艺高低的就是光刻机

我们先来了解一下光刻机是什么？

光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术，它又叫掩模对准曝光机，光刻系统等，用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程，换句话说，光刻机其实就是制造芯片不可替代的机器

目前，在全世界范围内，有能力生产光刻机的企业寥寥可数，能自主研发生产芯片的光刻机企业也就荷兰的阿斯麦(ASML)、日本的尼康(Nikon)、佳能(Canon)和中国的上海微电子(SMEE)四家，即便是科技最发达的美国，目前也不能独自完整生产出光刻机，只能参与控股ASML。

目前全世界最顶级的光刻机是荷兰ASML公司生产制造，佳能和尼康只能生产相对低一点的光刻机，甚至目前已经在逐步淡出市场

在技术方面，ASML目前领先全球，光刻机可以使用波长为13.5纳米的极紫外光（EUV），实现14纳米、10纳米、和7纳米制程的芯片生产，而通过技术升级，也可以实现9纳米，8纳米，6纳米，5纳米，4纳米乃至3纳米等制程的芯片生产

在ASML中，单台EUV光刻机都可以说是高达天价，售价达到1.2亿美元，而其产能每月平均不到2台，因受制于很多高端光学设备需要纯手工打造，虽然AMSL 试图在提升产能，但预计2019年最多能提供30台EUV 7nm光刻，而每年的产能还是会被各种国际芯片制造大厂所提前承包。在还没有生产出光刻机的时候，英特尔、三星和台积电等国际芯片制造厂商就已经将ASML的产能预定一空

早年虽然我国芯片产业试图多次购买ASML 光刻机，但由于受制于《瓦森纳协议》，外加西方国家的一些操控与干预，我国被禁止获得最新的几代顶级设备，也就是只能卖“中低端”的光刻机设备给我国

1970年代开始，就先后有清华大学精密仪器系、中科学院光电技术研究所、中电科45所投入光刻机的研制，1985年研制成功我国同类型第一台 g线1.5um分步投影光刻机，在1994年推出分辨率达0.8um的分步投影光刻机，2000年推出分辨率达0.5um实用分步投影光刻机

2002年国家在上海组建上海微电子装备有限公司(SMEE)承担“十五”光刻机攻关项目，随着我国综合国力和科技实力的不断提升，中国也开始于2006年提出了光刻技术的中长期规划，目前我国科学家也是连续攻克了芯片光刻机四道技术封锁线，跟ASML的技术差距在也在快速缩小，最新的国产光刻机已经能达到90nm

而我国的22nm、14nm还在研究中，至少相差两代。相信不远将来，以中国现在的刻机速度和研发实力，追上ASML 只是时间问题。

也正是如此，西方国家看到了中国国产光刻机研发的速度，之前这种高科技设备对我国都是禁止出口的，而现在陆续开始了打开封锁，第一家获得ASML 光刻机的企业是中芯国际，于2018年购得一台14nm光刻机，预计2019年交货。

相信和希望不久的将来，中国会自主研发出更加先进一流的光刻机，同时国内芯片厂商也会越来越多，中国在核心技术领域不再依赖于人。